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반도체 제1 공정 : 웨이퍼 제작

반도체 제2 공정 : 산화(oxidation) 공정

반도체 제3 공정 : 포토 리소그래피(photo lithography) 공정

반도체 제4 공정 : 식각(etching) 공정

반도체 제5 공정 : 박막(thin film) 및 증착(deposition) 공정

반도체 제6 공정 : 금속 배선(metallization) 공정

반도체 제7 공정 : EDS(electrical die sorting) 공정

반도체 제8 공정 : 패키징(packaging) 공정

Hot Topic

포토레스트 물질 관련 KR 특허를 가장 많이 보유하고 있는 일본 기업은?

포토레지스트 물질(photoresist material)은 표면에 패턴화된 코팅을 형성하기 위해 포토리소그래피(노광 공정) 등 여러 공정에 사용되는 광반응 물질로 감광성이 있는 수지로서, 반도체 제조 등 전자 산업에 필수적인 재료이다. 포토레지스트 물질(photoresist material) 관련하여 대한민국 특허청에 가장 많은 특허를 출원한 기업은 신에츠와 도쿄 일렉트론임으로 나타났다.

2020년 1월 7일

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